特許
J-GLOBAL ID：201103036487942659
リソグラフィ装置及びデバイス製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
稲葉 良幸
, 大貫 敏史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-048528
公開番号（公開出願番号）：特開2011-203248
出願日： 2011年03月07日
公開日（公表日）： 2011年10月13日
要約：
【課題】リソグラフィ装置で使用するために、基板の厚さ及び平坦さの通常の変動より大きい高さ範囲で確実な測定結果を提供するレベルセンサを提供する。【解決手段】基板の高さレベルを決定するように構成され、周期的な光強度を有する測定ビームを基板に投影する投影ユニットと、基板で反射した測定ビームを受ける検出ユニットとを備える。検出ユニットが、反射した測定ビームを受けるように配置された検出格子11を備え、検出格子11が投影される前記投影ビームの周期の長さと実質的に等しい長さを有する3つ以上のセグメント13a、13b、13cを備え、反射した測定ビーム14を3つ以上の反射測定ビーム部分14a、14b、14cに分割するように構成され、3つ以上の検出器がそれぞれ測定ビーム部分のうちの1つを受けるように配置され、さらに、検出器が受けた測定ビーム部分に基づいて高さレベルを計算する処理ユニットを備える。【選択図】図4
請求項（抜粋）：
基板の高さレベルを決定するように構成されたレベルセンサであって、
測定ビームを前記基板に投影する投影ユニットであって、
測定ビームを提供する光源と、
前記測定ビームを受け、前記測定ビームに実質的に周期的な光強度を与えるように配置された投影格子と、
を備える投影ユニットと、
前記基板で反射した後に、前記測定ビームを受けるように配置された検出ユニットであって、
前記反射した測定ビームを受けるように配置された検出格子であって、前記検出格子が、一緒に前記検出格子に投影される前記投影ビームの周期の長さと実質的に等しい長さを有する3つ以上のセグメントの少なくとも1つのアレイを備え、前記3つ以上のセグメントが、前記反射した測定ビームを3つ以上の反射した測定ビーム部分に分割するように構成された検出格子と、
それぞれが前記3つ以上の測定ビーム部分のうちの1つを受けるように配置された3つ以上の検出器と、
を備える検出ユニットと、
前記3つ以上の検出器が受けた前記測定ビーム部分に基づいて高さレベルを計算する処理ユニットと、
を備えるレベルセンサ。
IPC (3件)：
G01B 11/03
, H01L 21/027
, G03F 7/20
G01B11/03 Z
, H01L21/30 526B
, G03F7/20 521
2F065AA24
, 2F065BB01
, 2F065CC00
, 2F065CC19
, 2F065FF44
, 2F065HH06
, 2F065HH12
, 2F065JJ08
, 2F065JJ18
, 2F065JJ22
, 2F065LL19
, 2F065LL41
, 2F065LL46
, 2F065QQ17
, 5F146BA03
, 5F146CC01
, 5F146CC03
, 5F146CC05
, 5F146DA05
, 5F146DA14
, 5F146DB05
, 5F146DB10
, 5F146DC10
