特許
J-GLOBAL ID：200903018567713581

露光装置及びデバイス製造方法

発明者：
小杉 祐司

小杉 祐司 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (6件)： 大塚 康徳 ,  高柳 司郎 ,  大塚 康弘 ,  木村 秀二 ,  下山 治 ,  永川 行光
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-051286
公開番号（公開出願番号）：特開2009-182334
出願日： 2009年03月04日
公開日（公表日）： 2009年08月13日
要約：
【課題】ショット領域と計測点との位置関係が複数のショット領域間で異なることによる不利益、例えば局所デフォーカスを低減する。【解決手段】露光装置は、感光剤が塗布された基板の複数のショット領域を投影光学系を介して順に露光する。露光装置は、基板が走査駆動された状態で、連続する複数のショット領域内に定義された計測点の面位置を計測する計測器と、計測器による計測結果に基づいて、基板の被露光領域が投影光学系の像面に一致するように基板の面位置を制御する制御部とを備える。複数のショット領域401、402において、計測点を共通の配置とする。【選択図】図4
請求項（抜粋）：
感光剤が塗布された基板の複数のショット領域を投影光学系を介して順に露光する露光装置であって、 基板が走査駆動された状態で、連続する複数のショット領域内に定義された計測点の面位置を計測する計測器と、 前記計測器による計測結果に基づいて、基板の被露光領域が前記投影光学系の像面に一致するように基板の面位置を制御する制御部とを備え、 ショット領域の端から当該ショット領域内の計測点までの距離Mが複数のショット領域において共通し、ショット領域内の隣接する計測点の間隔が共通の第1距離Pになり、ショット領域内の最後の計測点と次のショット内の最初の計測点との間隔が第2距離Dとなるように、複数のショット領域のそれぞれについて複数の計測点が定義され、 前記計測器は、ショット領域毎に加速および減速がされることなく基板が等速度で走査駆動された状態で、走査駆動方向に沿って連続して配列された少なくとも2つのショット領域内の計測点の面位置を計測し、 ショット領域のスキャン長をL、ショット領域間の距離をYpitchとしたとき、 K=INT((L-M)/P)、 D=Ypitch-K×P を満たす、ことを特徴とする露光装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/207 ,  G01B 11/00
FI (6件)：
H01L21/30 526B ,  H01L21/30 516A ,  H01L21/30 518 ,  H01L21/30 514E ,  G03F7/207 H ,  G01B11/00 A
Fターム (34件)：
2F065AA02 ,  2F065AA06 ,  2F065AA24 ,  2F065AA31 ,  2F065BB02 ,  2F065CC19 ,  2F065DD12 ,  2F065FF04 ,  2F065FF10 ,  2F065FF55 ,  2F065GG02 ,  2F065GG07 ,  2F065GG23 ,  2F065HH12 ,  2F065JJ02 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ25 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL00 ,  2F065LL28 ,  2F065LL30 ,  2F065LL46 ,  2F065LL59 ,  2F065PP12 ,  5F046AA17 ,  5F046BA05 ,  5F046CB25 ,  5F046CC01 ,  5F046CC05 ,  5F046CC14 ,  5F046DA05 ,  5F046DA14 ,  5F046DB05 ,  5F046DC10
引用特許：
審査官引用 (8件)
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