特許
J-GLOBAL ID：201103056336130521
リソグラフィ装置及びデバイス製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
稲葉 良幸
, 大貫 敏史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-048521
公開番号（公開出願番号）：特開2011-209278
出願日： 2011年03月07日
公開日（公表日）： 2011年10月20日
要約：
【課題】基板の高さマップを決定するために使用する時間を短縮する。【解決手段】測定位置に配置された基板の高さレベルを測定するように構成されたレベルセンサ1が開示される。レベルセンサ1は、基板2の複数の測定位置に複数の測定ビームを投影する投影ユニット3と、基板2で反射した後に測定ビームを受ける検出ユニット4と、検出ユニット4が受けた反射測定ビームに基づいて高さレベルを計算する処理ユニット5とを備え、基板2が測定位置に配置されると、投影ユニット3及び検出ユニット4は基板2に隣接して配置される。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
測定位置に配置された基板の高さレベルを測定するように構成されたレベルセンサであって、前記レベルセンサが、
複数の測定ビームを前記基板の複数の測定位置に投影する投影ユニットと、
前記基板で反射した後に前記測定ビームを受ける検出ユニットと、
前記検出ユニットが受けた前記反射測定ビームに基づいて、高さレベルを計算する処理ユニットと、
を備え、
前記基板が前記測定位置に配置されると、前記投影ユニットと前記検出ユニットが前記基板に隣接して配置されるレベルセンサ。
IPC (3件)：
G01B 11/02
, H01L 21/027
, G03F 7/20
G01B11/02 Z
, H01L21/30 526B
, G03F7/20 521
2F065AA24
, 2F065BB01
, 2F065HH03
, 2F065HH04
, 2F065HH12
, 2F065JJ08
, 2F065LL12
, 2F065LL41
, 5F146BA03
, 5F146CC01
, 5F146CC03
, 5F146CC05
, 5F146DA05
, 5F146DA14
, 5F146DB05
, 5F146DB10
, 5F146DC10
