特許
J-GLOBAL ID：201103041258647388
液晶装置の製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
西 和哉
, 志賀 正武
, 青山 正和
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-280831
公開番号（公開出願番号）：特開2001-100212
特許番号：特許第3879326号
出願日： 1999年09月30日
公開日（公表日）： 2001年04月13日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 液晶層が挟持された一対の基板の液晶層側の面に前記液晶層の液晶分子を配向させるための配向処理がそれぞれ施されてなる液晶装置の製造方法であって、
前記一対の基板の液晶層側の面に配向方向を規制する配向処理が施された第一の配向層をそれぞれ形成し、これら第一の配向層のうち少なくとも一方の第一の配向層の液晶層側の面上に前記第一の配向層よりも耐光性が高く、かつ液晶性を有する高分子前駆体を塗布した後、
前記第一の配向層に施された配向規制処理による配向状態を維持したまま高分子前駆体を重合、硬化することで、表面に前記高分子前駆体の重合物に起因する複数の粒子状又は線状の凸部が形成され、当該表面の平均表面粗さが100nm以下であって厚さが500nm以下の第二の配向層を形成するに際して、
前記第二の配向層の表面粗さを、前記第一の配向層上に塗布する前記高分子前駆体の膜厚により調整することを特徴とする液晶装置の製造方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
引用特許：
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (10件)
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