RF電力供給のための時間分解チューニングスキームを利用したパルス化プラズマ処理の方法及び装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：安齋嘉章
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-509647
公開番号（公開出願番号）：特表2011-525682
出願日： 2009年05月13日
公開日（公表日）： 2011年09月22日
要約：

本発明の実施形態は概して、広いプロセスウィンドウのパルス化プラズマ処理のための方法及び装置を提供する。一部の実施形態において、装置は、周波数チューニングを行うRF電源及びこのRF電源に連結されたマッチングネットワークを含み、RF電源及びマッチングネットワークは、RF電源に反射した反射RF電力を読み取るための共通センサを共有する。一部の実施形態において、装置は、周波数チューニングを行うRF電源及びこのRF電源に連結されたマッチングネットワークを含み、RF電源及びマッチングネットワークは、RF電源に反射した反射RF電力を読み取るための共通センサ並びにRF電源及びマッチングネットワークのそれぞれのチューニングを行うための共通コントローラを共有する。

請求項（抜粋）：

周波数チューニングを行う第1RF電源と、第1RF電源に連結された第1マッチングネットワークと、第1RF電源に反射した反射RF電力を読み取るための第1共通センサとを備え、共有センサが、第1RF電源及び第1マッチングネットワークに連結される装置。

IPC (4件)：

H05H 1/46 , H05H 1/00 , H01L 21/306 , C23C 16/505

FI (5件)：

H05H1/46 R , H05H1/00 A , H05H1/46 L , H01L21/302 101C , C23C16/505

Fターム (10件)：

4K030CA04 , 4K030CA12 , 4K030FA04 , 4K030KA20 , 4K030KA30 , 4K030LA15 , 5F004BA20 , 5F004BB11 , 5F004CA03 , 5F004DB01

引用特許：

審査官引用 (10件)

プラズマシース発生高調波をフィルタリングすることによるプラズマプロセス効率の改善
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-339249 出願人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
負荷不整合信頼性および安定性のあるVHFプラズマ処理のための方法および装置
公報種別：公表公報出願番号：特願2004-507297 出願人：イーエヌアイテクノロジー,インコーポレイテッド
特開平2-141101

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