特許
J-GLOBAL ID:201103042183324134

レーザー加工用プラスチック材料及び該材料が加工されたプラスチック構造体

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 後藤 幸久
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-336008
公開番号(公開出願番号):特開2003-138139
特許番号:特許第3976547号
出願日: 2001年11月01日
公開日(公表日): 2003年05月14日
請求項(抜粋):
【請求項1】 レーザーを外部から照射することにより加工する、400nm〜800nmの可視光波長領域において全光線透過率が10%以上のレーザー加工用プラスチック材料であって、樹脂母材(A)と、前記樹脂母材(A)に対して少なくとも部分的に不溶性を有し、且つ樹脂母材(A)中に相分離により粒子状に分散している有機低分子物質(B1)と、前記樹脂母材(A)に対して溶解性を有し、且つ有機低分子物質(B1)と固溶体を生成しない有機低分子物質(B2)とから構成されるとともに、前記樹脂母材(A)中における有機低分子物質(B1)の融点T1が、樹脂母材(A)中における有機低分子物質(B2)の融点T2よりも低く、且つT1〜T2の範囲の温度に昇温して徐冷させることにより、有機低分子物質(B2)が有機低分子物質(B1)の融液に分子配向性を付与して、レーザー照射によりT2以上の温度に加温し常温に低下するまで急冷させた場合と比較して、有機低分子物質(B1)の結晶を大きくさせることが可能であることを特徴とするレーザー加工用プラスチック材料。
IPC (3件):
C08L 101/00 ( 200 6.01) ,  C08K 5/00 ( 200 6.01) ,  G11B 7/24 ( 200 6.01)
FI (3件):
C08L 101/00 ,  C08K 5/00 ,  G11B 7/24
引用特許:
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (8件)
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