成膜装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：浅井章弘
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-156871
公開番号（公開出願番号）：特開2000-345343
特許番号：特許第4461507号
出願日： 1999年06月03日
公開日（公表日）： 2000年12月12日
請求項（抜粋）：

【請求項1】真空引き可能になされた処理容器内に設置した載置台上に被処理体を載置し、前記処理容器内に腐食性の成膜ガスを導入して成膜処理を施すようにした成膜装置において、前記処理容器内に設けた部品の材料はアモルファスカーボンであり、前記アモルファスカーボンは、ブラスト処理により平均表面粗さが3.0〜7.4μmの範囲内に設定された後に、酸素存在下のプラズマエッチング処理が施されていることを特徴とする成膜装置。

IPC (2件)：