位相シフトマスクブランク及びその製造方法

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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：小島隆司 , 西川裕子
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-192958
公開番号（公開出願番号）：特開2003-005347
特許番号：特許第4600629号
出願日： 2001年06月26日
公開日（公表日）： 2003年01月08日
請求項（抜粋）：

【請求項1】透明基板上に位相シフト膜が形成された位相シフトマスクブランクにおいて、前記位相シフト膜は、金属と、珪素と、酸素及び窒素から選ばれる少なくとも1種とを含む互いに膜組成が異なる2種の膜が合計で5〜30層交互に積層され、該層の1層の膜厚が50nm以下であり、透過する露光光の位相を180±5度変換し、かつ、透過率が3〜40%である互層膜よりなることを特徴とする位相シフトマスクブランク。

IPC (2件)：