特許
J-GLOBAL ID：201103046797835084
シリカ容器及びその製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
好宮 幹夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-182610
公開番号（公開出願番号）：特開2011-032147
出願日： 2009年08月05日
公開日（公表日）： 2011年02月17日
要約：
【課題】高寸法精度を有し、炭素及びOH基の含有量が極めて少ないシリカ容器を、シリカを主成分とする粉体を主原料として、低コストで製造できるシリカ容器の製造方法、及び、このようなシリカ容器を提供する。【解決手段】回転対称性を有するシリカ基体51を備えてなるシリカ容器71を製造する方法であって、減圧用の孔を有する外型枠を回転させながら、外型枠の内壁に基体用原料粉(シリカ粒子)を導入し、所定形状に仮成形する工程、除湿により所定の露点温度以下とした、O2ガスと不活性ガスとを含む混合ガスを、仮成形体の内側から供給し、外型枠内のガスを換気して、外型枠内における湿度を調整しつつ、仮成形体を外周側から減圧しながら、炭素電極による放電加熱溶融法により仮成形体の内側から加熱することによって、仮成形体の外周部分を焼結体とするとともに、内側部分を溶融ガラス体とし、シリカ基体51を形成する工程、を含む。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
少なくとも、シリカを主な構成成分とし、回転対称性を有するシリカ基体を備えてなるシリカ容器を製造する方法であって、
前記シリカ基体を形成するためのシリカ粒子である基体用原料粉を準備する工程と、
回転対称性を有しており、減圧用の孔が内壁に分配されて形成された、外型枠を回転させながら、該外型枠の内壁に前記基体用原料粉を導入し、該基体用原料粉を前記外型枠の内壁に応じた所定形状に仮成形してシリカ基体の仮成形体とする工程と、
除湿により所定の露点温度以下とした、O2ガスと不活性ガスとを含む混合ガスを、前記シリカ基体の仮成形体の内側から供給し、前記外型枠内のガスを換気して、前記外型枠内における湿度を調整しつつ、前記外型枠に形成されている減圧用の孔によって減圧することにより、前記シリカ基体の仮成形体を外周側から減圧して脱ガスしながら、炭素電極による放電加熱溶融法により前記シリカ基体の仮成形体の内側から加熱することによって、前記シリカ基体の仮成形体の外周部分を焼結体とするとともに、前記シリカ基体の仮成形体の内周部分を溶融ガラス体とし、前記シリカ基体を形成する工程と
を含むことを特徴とするシリカ容器の製造方法。
IPC (3件)：
C03B 20/00
, C30B 29/06
, C30B 15/10
C03B20/00 H
, C30B29/06 502B
, C30B15/10
4G014AH00
, 4G077AA02
, 4G077BA04
, 4G077CF10
, 4G077EG02
, 4G077HA12
, 4G077PD01
