溶存酸素濃度の制御を含む廃水処理方法およびプラント

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：正林真之 , 林一好
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-533607
公開番号（公開出願番号）：特表2011-502776
出願日： 2008年11月14日
公開日（公表日）： 2011年01月27日
要約：

本発明は、廃水が、担体表面上に保持される細菌に接触し、当該廃水の溶存酸素濃度が、2.0mg/l以下に維持される接触工程;曝気工程であって、ガスが、当該接触工程を通り抜けた廃水を通り抜け、当該廃水が、当該曝気工程を通り抜けるにつれて、当該廃水の溶存酸素濃度が減少する曝気工程;当該曝気工程を通り抜けた廃水が、処理水および汚泥に実質的に分離する沈降工程;ならびに、当該沈降工程からの汚泥が当該接触工程に移る汚泥再循環工程、を含む廃水を処理するための方法に関する。本発明はまた、上述の方法を操作できる処理ユニットに関する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

廃水を処理するための方法であって、 a.廃水が、担体表面上に保持される細菌に接触し、前記廃水の溶存酸素濃度が、2.0mg/l以下に維持される接触工程、 b.曝気工程であって、ガスが、前記接触工程を通り抜けた廃水を通り抜け、前記廃水が前記曝気工程を通り抜けるにつれて、前記廃水の溶存酸素濃度が減少する曝気工程、 c.前記曝気工程を通り抜けた廃水が、処理水および汚泥に実質的に分離する沈降工程、ならびに d.前記沈降工程からの汚泥が前記接触工程に移る汚泥再循環工程、を含む方法。

IPC (3件)：

C02F 3/12 , C02F 3/34 , C02F 3/02

FI (3件)：

C02F3/12 J , C02F3/34 Z , C02F3/02 A

Fターム (36件)：

4B065AA15X , 4B065AA17X , 4B065AA23X , 4B065BC06 , 4B065BC42 , 4B065BC43 , 4B065CA54 , 4D003AA01 , 4D003AA09 , 4D003AA12 , 4D003AB01 , 4D003BA03 , 4D003CA04 , 4D003CA07 , 4D003DA01 , 4D003DA11 , 4D003EA14 , 4D003EA16 , 4D003EA30 , 4D003FA05 , 4D003FA06 , 4D028AA08 , 4D028AB03 , 4D028BB02 , 4D028BB06 , 4D028BC24 , 4D028BD12 , 4D028CA07 , 4D028CB02 , 4D028CC07 , 4D040DD03 , 4D040DD14 , 4D040DD16 , 4D040DD18 , 4D040DD24 , 4D040DD31

引用特許：

審査官引用 (15件)

下水の高度処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2007-101150 出願人：池知弘見, 中山智津子, キムジェジュン
特開昭58-128190
廃水処理方法およびその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-377528 出願人：池知弘見

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引用文献：

審査官引用 (1件)

回転活性バチルス菌接触法を用いた高度処理技術

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