アクリル系共重合体およびそれを含有する反射防止膜形成組成物並びにレジスト膜の形成方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：岩見谷周志
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-149872
公開番号（公開出願番号）：特開2001-027810
特許番号：特許第4164942号
出願日： 1999年05月28日
公開日（公表日）： 2001年01月30日
請求項（抜粋）：

【請求項1】下記一般式(1)で示される構造単位および下記一般式(2)で示される構造単位を有する共重合体: (式中、R1は水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1〜6の炭化水素基、ニトロ基、第1級アミノ基、ヒドロキシ基、アシル基、カルボキシル基、スルホン基またはメルカプト基を示し、R1が複数存在する場合にはそれらは同一でも異なってもよく、R2は、水素原子またはメチル基を示し、mは1〜9の整数を示す。) (式中、R3は、水素原子を示し、R4は、水素原子または炭素原子数1〜6の直鎖状または分岐状アルキル基を示す。)。

IPC (6件)：

C08F 220/10 ( 200 6.01) , C08F 220/58 ( 200 6.01) , H01L 21/027 ( 200 6.01) , G03F 7/11 ( 200 6.01) , G03F 7/027 ( 200 6.01) , C08L 33/24 ( 200 6.01)

FI (6件)：

C08F 220/10 , C08F 220/58 , H01L 21/30 574 , G03F 7/11 503 , G03F 7/027 514 , C08L 33/24

引用特許：

出願人引用 (9件)

光重合性組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-082914 出願人：キヤノン株式会社, サンノプコ株式会社
特開昭62-290726
光重合性組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-167060 出願人：キヤノン株式会社

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審査官引用 (1件)

光重合性組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-082914 出願人：キヤノン株式会社, サンノプコ株式会社

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