基板の超音波洗浄条件決定方法及びこれを用いた基板洗浄装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：杉谷勉 , 戸高弘幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-224677
公開番号（公開出願番号）：特開2011-077135
出願日： 2009年09月29日
公開日（公表日）： 2011年04月14日
要約：

【課題】超音波洗浄時における基板のパターンへのダメージを抑制することができる。【解決手段】(1/2)fの出力が、処理液を脱気水としたときの出力値以下になる最適洗浄条件を決定した上で、制御部57が最適洗浄条件となるように各部を操作して、製品の基板Wに対する洗浄処理を行わせる。したがって、(1/2)fのサブハーモニクスによる悪影響を抑制することができ、超音波洗浄時における基板Wのパターンへのダメージを抑制できる。【選択図】図5

請求項（抜粋）：

ガスを溶存させた処理液に基板を浸漬させ、超音波振動付与手段により処理液に周波数fの超音波振動を付与して基板を洗浄する基板の超音波洗浄条件決定方法において、処理液中に生じる(1/2)fのサブハーモニクスの出力を、処理液を脱気水としたときの出力値以下にすることを特徴とする基板の超音波洗浄条件決定方法。

IPC (3件)：

H01L 21/304 , G02F 1/13 , G02F 1/133

FI (4件)：

H01L21/304 648G , H01L21/304 642E , G02F1/13 101 , G02F1/1333 500

Fターム (28件)：

2H088FA21 , 2H088FA30 , 2H088HA01 , 2H090JB02 , 2H090JC19 , 5F157AC01 , 5F157BB02 , 5F157BB74 , 5F157BB79 , 5F157BC03 , 5F157BC12 , 5F157BC13 , 5F157BC54 , 5F157BD26 , 5F157BD54 , 5F157BE12 , 5F157BF22 , 5F157BF23 , 5F157CD15 , 5F157CE37 , 5F157CE38 , 5F157CE83 , 5F157CE89 , 5F157CF42 , 5F157CF44 , 5F157CF60 , 5F157DA21 , 5F157DB47

引用特許：

審査官引用 (8件)

超音波洗浄装置及びその超音波洗浄方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-361700 出願人：株式会社カイジョー
篩の洗浄方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-256242 出願人：北海道住電精密株式会社, 住友電気工業株式会社
超音波治療
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-315509 出願人：マルムロス・ホールディング・インコーポレーテッド

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