特許
J-GLOBAL ID：201103052496068592
静電吸着装置、真空処理装置、及び静電吸着方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
石島 茂男
, 阿部 英樹
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-330889
公開番号（公開出願番号）：特開2001-148371
特許番号：特許第4159216号
出願日： 1999年11月22日
公開日（公表日）： 2001年05月29日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 吸着電極と、ヒータとが誘電体内に配置され、前記誘電体上に処理対象物を配置し、前記吸着電極に電圧を印加すると、前記処理対象物が前記誘電体上に吸着されるように構成された静電吸着装置であって、
前記誘電体の温度と前記処理対象物の温度を測定する測定装置を有し、
前記測定装置は、前記ヒータによって昇温された前記誘電体上に前記処理対象物を配置した後、前記処理対象物の静電吸着をした時の前記誘電体の温度低下を測定し、前記温度低下が第一の基準値よりも小さかった場合は前記処理対象物が正常に吸着されていないと判断し、
前記処理対象物の静電吸着後の昇温速度が第二の基準値よりも小さかった場合は、前記処理対象物が正常に吸着されていないと判断するように構成され、
前記誘電体には貫通孔が設けられ、前記誘電体上に前記処理対象物を配置すると、前記貫通孔の一方の開口部分に前記処理対象物表面が露出するように構成され、
前記測定装置は、前記処理対象物の前記開口部分に露出する表面から放射された赤外線を検出し、前記処理対象物の温度を測定するように構成された静電吸着装置。
IPC (3件)：
H01L 21/3065 ( 200 6.01)
, H01L 21/205 ( 200 6.01)
, H01L 21/683 ( 200 6.01)
H01L 21/302 101 G
, H01L 21/205
, H01L 21/68 R
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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