ポジ型感放射線性組成物、硬化膜、層間絶縁膜、層間絶縁膜の形成方法、表示素子、及び層間絶縁膜形成用のシロキサンポリマー

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (7件)：天野一規 , 藤本勝誠 , 藤井康輔 , 池田義典 , 小川博生 , 加藤早苗 , 奥谷優
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-113006
公開番号（公開出願番号）：特開2011-028225
出願日： 2010年05月17日
公開日（公表日）： 2011年02月10日
要約：

【課題】キノンジアジド化合物との相溶性が高く、ITO膜エッチング工程におけるレジスト剥離液耐性に優れた層間絶縁膜を形成可能なポリシロキサン系ポジ型感放射線性組成物を提供することを目的とする。【解決手段】本発明は、[A]シロキサンポリマー、及び[B]キノンジアジド化合物を含有し、[A]シロキサンポリマー中のアリール基のSi原子に対する含有率が60モル%を超え95モル%以下であるポジ型感放射線性組成物である。[A]シロキサンポリマーが、下記式(1)(式中、R1は、各々独立に、水素原子、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数2〜10のアルケニル基、炭素数6〜15のアリール基のいずれかを表す。R2は、各々独立に、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアシル基、炭素数6〜15のアリール基のいずれかを表す。但し、これらのアルキル基、アルケニル基、及びアルキル基の水素原子の一部又は全部は置換されていてもよい。nは0から3の整数を表す)で示される化合物を少なくとも含む加水分解性シラン化合物の加水分解縮合物であってよい。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

[A]シロキサンポリマー、及び [B]キノンジアジド化合物を含有するポジ型感放射線性組成物であって、上記[A]シロキサンポリマー中のアリール基のSi原子に対する含有率が、60モル%を超え95モル%以下であることを特徴とするポジ型感放射線性組成物。

IPC (5件)：

G03F 7/075 , G03F 7/023 , G03F 7/004 , G03F 7/40 , C08G 77/04

FI (5件)：

G03F7/075 521 , G03F7/023 , G03F7/004 501 , G03F7/40 501 , C08G77/04

Fターム (53件)：

2H096AA27 , 2H096BA10 , 2H096EA02 , 2H096GA08 , 2H096HA01 , 2H096JA04 , 2H125AE04P , 2H125AE12P , 2H125AF04P , 2H125AF05P , 2H125AF13P , 2H125AF21P , 2H125AF35P , 2H125AF46P , 2H125AF53P , 2H125AG00P , 2H125AM85P , 2H125AN11P , 2H125AN38P , 2H125AN41P , 2H125BA05P , 2H125BA24P , 2H125BA32P , 2H125CA22 , 2H125CA24 , 2H125CB05 , 2H125CB06 , 2H125CC03 , 2H125CC21 , 4H006AA03 , 4H006AB64 , 4J246AA03 , 4J246BA11X , 4J246BA12X , 4J246BA14X , 4J246BB02 , 4J246BB02X , 4J246BB020 , 4J246BB022 , 4J246CA24X , 4J246CA40X , 4J246CA400 , 4J246CA65X , 4J246FA061 , 4J246FA071 , 4J246FA121 , 4J246FA421 , 4J246FB101 , 4J246FB173 , 4J246GA01 , 4J246GA02 , 4J246GA11 , 4J246HA15

引用特許：

審査官引用 (12件)

感光性樹脂組成物、シリカ系被膜の形成方法、及びシリカ系被膜を備える装置及び部材
公報種別：公開公報出願番号：特願2007-166795 出願人：日立化成工業株式会社
特開平3-288857
特開昭61-144639

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引用文献：

審査官引用 (1件)

化学大辞典1, 19600330, 346

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