ポジティブ型感光性有機・無機ハイブリッド絶縁膜組成物

発明者： , , , , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：大家邦久 , 林篤史
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-540603
公開番号（公開出願番号）：特表2012-511740
出願日： 2009年12月09日
公開日（公表日）： 2012年05月24日
要約：

【課題】既存のSiNxパッシベーション膜/アクリル系感光性有機絶縁膜の二重構造を一つの層に形成することにより、工程を単純化し、生産費を節減することができ、感度、解像度、工程マージン、透明性、耐熱変色性などの性能が優れると共に、特に低誘電率絶縁膜を可能にすることによって消費電力を低くすることができ、残像及びクロストーク、及びしきい電圧のシフト現象を防止することができ、また、優れた耐熱性による低アウトガスを可能にすることによって優れたパネル信頼性を確保することができ、これによって多様なディスプレイにおいてパッシベーション絶縁膜、ゲート絶縁膜だけでなく、平坦化膜などとしても有用に適用することができるポジティブ型感光性有機・無機ハイブリッド絶縁膜組成物を提供する。【解決手段】本発明によるポジティブ型感光性有機・無機ハイブリッド絶縁膜組成物は、i)下記の化学式1で示される1〜3個のフェニル基を含む反応性シラン、(ii)下記の化学式2で示される4官能反応性シランのシラン単量体を触媒の存在下で加水分解及び縮合重合して得られたポリスチレン換算質量平均分子量(Mw)が1,000〜20,000であるシロキサンオリゴマー化合物;(b)1,2-キノンジアジド化合物;及び(c)溶媒を含むことを特徴とする。【化1】(式中、R1はフェニル基であり、R2はそれぞれ独立して炭素数1〜4のアルコキシ基、フェノキシ基、またはアセトキシ基であり、nは1〜3の整数である。) 【化2】(式中、R3はそれぞれ独立して炭素数1〜4のアルコキシ基、フェノキシ基、またはアセトキシ基である。)。

請求項（抜粋）：

(a)(i)下記の化学式1

IPC (6件)：

G03F 7/023 , G03F 7/075 , G03F 7/004 , H01L 21/027 , G02F 1/133 , G09F 9/30

FI (6件)：

G03F7/023 501 , G03F7/075 521 , G03F7/004 501 , H01L21/30 502R , G02F1/1333 505 , G09F9/30 348A

Fターム (33件)：

2H090HA03 , 2H090HA04 , 2H090HA05 , 2H090HB12X , 2H090HC13 , 2H090HD02 , 2H090HD03 , 2H090HD07 , 2H090LA04 , 2H125AF05P , 2H125AM85P , 2H125AN36P , 2H125AN39P , 2H125AN51P , 2H125AN52P , 2H125BA04P , 2H125CA12 , 2H125CA21 , 2H125CB02 , 2H125CC03 , 2H125CC21 , 2H125CD08P , 2H125CD38 , 5C094AA43 , 5C094BA27 , 5C094BA43 , 5C094DA15 , 5C094FB01 , 5C094FB02 , 5C094FB20 , 5C094GB10 , 5C094JA01 , 5C094JA20

引用特許：

審査官引用 (8件)

シロキサン系樹脂組成物、光学物品およびシロキサン系樹脂組成物の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-261939 出願人：東レ株式会社
特開平3-260653
感光性シロキサン組成物およびその製造方法、感光性シロキサン組成物から形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-301288 出願人：東レ株式会社

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