特許
J-GLOBAL ID：201103057140015810
極端紫外光生成装置、レーザシステムおよび方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
酒井 宏明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-254251
公開番号（公開出願番号）：特開2011-228256
出願日： 2010年11月12日
公開日（公表日）： 2011年11月10日
要約：
【課題】エネルギー変換効率を改善する。【解決手段】ターゲット物質にプリパルスレーザ光L1を照射することによって拡散ターゲットPPを生成し、メインパルスレーザ光L2を該拡散ターゲットPPに照射することによってプラズマ化し、当該プラズマPRから放射された極端紫外光L3を出力する極端紫外光を生成する装置1は、プリパルスレーザ光L1の偏光状態を制御する第1偏光制御部10、または、メインパルスレーザ光L2の偏光状態を制御する第2偏光制御部610のいずれか一方の偏光制御部、または両方の偏光制御部を備える。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
レーザシステムと共に用いられる極端紫外光生成装置であって、
レーザ光用の少なくとも1つの入射口およびターゲット物質を供給するためのターゲット供給部を含むチャンバと、
レーザ光の光路上に設けられ、少なくとも1つのレーザ光の偏光状態を制御する少なくとも1つの偏光制御部と、
を備える、極端紫外光生成装置。
IPC (4件)：
H05G 2/00
, G21K 1/00
, G21K 5/02
, G02B 5/30
H05G1/00 K
, G21K1/00 X
, G21K5/02 X
, G02B5/30
2H149AA21
, 2H149DA01
, 2H149DA02
, 2H149DA03
, 2H149DA06
, 2H149DA12
, 4C092AA06
, 4C092AA15
, 4C092AA17
, 4C092AB21
, 4C092AC09
, 4C092BD05
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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