特許
J-GLOBAL ID:201103059488980236
プラズマ処理装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (2件):
浜野 孝雄
, 平井 輝一
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-145470
公開番号(公開出願番号):特開2001-140085
特許番号:特許第4585648号
出願日: 2000年05月17日
公開日(公表日): 2001年05月22日
請求項(抜粋):
【請求項1】 一つの真空チャンバー内に設けられた複数の高周波電極のそれぞれに処理すべき基板を装着し、
真空チャンバー内に発生されたプラズマを利用して所定の処理を行うようにしたプラズマ処理装置において、
真空チャンバー内に設けられた複数の高周波電極をそれぞれの可変真空コンデンサ及び共通のマッチング回路網を介して共通の高周波電源に接続し、それぞれの高周波電極におけるインピーダンスが等しくなるようにそれぞれの可変真空コンデンサの容量を設定して、それぞれの高周波電極に均一に高周波電力を分配するようにしたことを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (5件):
C23F 4/00 ( 200 6.01)
, C23C 16/509 ( 200 6.01)
, H01L 21/205 ( 200 6.01)
, H01L 21/3065 ( 200 6.01)
, H05H 1/46 ( 200 6.01)
FI (6件):
C23F 4/00 A
, C23C 16/509
, H01L 21/205
, H01L 21/302 101 Z
, H05H 1/46 M
, H05H 1/46 R
引用特許:
出願人引用 (5件)
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高周波装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-008951
出願人:日本電子株式会社
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ドライエッチング装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-043822
出願人:株式会社日立製作所
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プラズマ励起用電極
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-184450
出願人:国際電気株式会社
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審査官引用 (4件)