特許
J-GLOBAL ID:201103062103788837

加熱調理器

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 高橋 省吾 ,  稲葉 忠彦 ,  村上 加奈子 ,  中鶴 一隆
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-209341
公開番号(公開出願番号):特開2011-056062
出願日: 2009年09月10日
公開日(公表日): 2011年03月24日
要約:
【課題】 従来、加熱調理器にPTFEを使用する場合、PTFEの耐熱性により使用温度を制約され、部品によっては加熱調理に伴う温度上昇のため、防汚や非粘着性が必要な部位に皮膜を施すことができない課題があった。また、PTFEを含む皮膜の形成に一定の制約を受ける課題があった。【解決手段】 本発明に係る加熱調理器は,上記のよう課題を解決するために,ヒータ、マグネトロン、誘導加熱コイルのいずれかの加熱手段と加熱調理をおこなう調理室、調理台、受皿、調理容器、天板のいずれかを備え、調理室、調理台、受皿、調理容器、天板、ヒータ、排気風路のいずれかを構成する部品の表面に微細な凹凸を設け、ゾル・ゲル法によりシロキサン結合を持つ三次元架橋マトリックス構造のセラミックコーティング皮膜を形成した。【選択図】 図6
請求項(抜粋):
ヒータ、マグネトロン、誘導加熱コイルのいずれかの加熱手段と加熱調理をおこなう調理室、調理台、受皿、調理容器、天板のいずれかを備え、調理室、調理台、受皿、調理容器、天板、ヒータ、排気風路、吸排気口カバーのいずれかを構成する部品の表面に微細な凹凸を設け、ゾル・ゲル法によりシロキサン結合を持つ三次元架橋マトリックス構造のセラミックコーティング皮膜を形成したことを特徴とする加熱調理器。
IPC (3件):
A47J 36/04 ,  A47J 27/00 ,  H05B 6/12
FI (5件):
A47J36/04 ,  A47J27/00 107 ,  H05B6/12 305 ,  H05B6/12 335 ,  H05B6/12 317
Fターム (15件):
3K051AA08 ,  3K051AB09 ,  3K051AC33 ,  3K051AD35 ,  3K051AD38 ,  3K051CD44 ,  4B055AA01 ,  4B055BA25 ,  4B055BA27 ,  4B055BA56 ,  4B055CA01 ,  4B055CB03 ,  4B055FA01 ,  4B055FB23 ,  4B055FC09
引用特許:
審査官引用 (10件)
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