特許

J-GLOBAL ID：201103062801399540

新規スルホニルジアゾメタン化合物及びレジスト材料用の光酸発生剤

発明者： 大澤 洋一 ,  渡辺 淳 ,  関 明寛 ,  竹村 勝也 ,  名倉 茂広
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (2件)： 小島 隆司 ,  西川 裕子
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-285442
公開番号（公開出願番号）：特開2001-106669
特許番号：特許第4235781号
出願日： 1999年10月06日
公開日（公表日）： 2001年04月17日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 下記一般式(1’)で示されるスルホニルジアゾメタン化合物。 (式中R1はメチル基、エチル基、tert-ブチル基、n-ブチル基、又はフェニル基を示す。R3はシクロヘキシル基、又はフェニル基を示し、GはSO2又はCOを示す。nは1又は2であり、mは0又は1である。また、n+m=2である。)

IPC (5件)：

C07C 317/28 ( 200 6.01) ,  C07C 381/14 ( 200 6.01) ,  G03F 7/004 ( 200 6.01) ,  G03F 7/039 ( 200 6.01) ,  H01L 21/027 ( 200 6.01)

FI (5件)：

C07C 317/28 ,  C07C 381/14 ,  G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 新規なスルホニルジアゾメタン化合物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-198953   出願人：東京応化工業株式会社, ダイトーケミックス株式会社
• 化学増幅型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-198979   出願人：東京応化工業株式会社
• 感放射線性組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-134535   出願人：三菱化学株式会社
• 新規なジアゾメタン化合物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-198955   出願人：東京応化工業株式会社, ダイトーケミックス株式会社
• 新規ビススルホニルジアゾメタン
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-198954   出願人：東京応化工業株式会社, ダイトーケミックス株式会社