特許

J-GLOBAL ID：201103065817519235

ナノインプリント・リソグラフィ用の多孔質テンプレートおよびインプリント用スタック

発明者： シュ,フランク・ワイ ,  リウ,ウェイジュン ,  フレッチャー,エドワード・ビイ ,  スリニーヴァッサン,シトルガタ・ヴイ ,  チョイ,ビュン-ジン ,  クスナットディノヴ,ニヤズ ,  チェララ,アンシュマン ,  セリンディス,コスタ
出願人/特許権者： モレキュラー・インプリンツ・インコーポレーテッド
代理人 (2件)： 山川 政樹 ,  山川 茂樹
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-534971
公開番号（公開出願番号）：特表2011-505270
出願日： 2008年11月21日
公開日（公表日）： 2011年02月24日
要約：

インプリント・リソグラフィ・テンプレートまたはインプリント用スタックが、少なくとも約0.4nmの平均細孔サイズをもつ多数の細孔を画定する多孔質材料を含む。多孔質材料の多孔率は少なくとも約10%である。多孔質テンプレート、多孔質インプリント用スタック、または両方をインプリント・リソグラフィ工程で使用して、テンプレートとインプリント用スタックとの間にトラップされたガスをテンプレート、インプリント用スタック、または両方に拡散しやすくし、その結果、インプリント用スタックとテンプレートとの間の重合可能材料がインプリント用スタックとテンプレートとの間に実質的に連続的な層を迅速に形成する。

請求項（抜粋）：

少なくとも約0.4nmの平均細孔サイズをもつ多数の細孔を画定する多孔質材料を含むインプリント・リソグラフィ・テンプレートであって、前記多孔質材料の多孔率が少なくとも約10%であるインプリント・リソグラフィ・テンプレート。

IPC (5件)：

B29C 59/02 ,  B41F 17/14 ,  B41N 1/12 ,  H01L 21/027 ,  B29C 33/38

FI (5件)：

B29C59/02 B ,  B41F17/14 E ,  B41N1/12 ,  H01L21/30 502D ,  B29C33/38

Fターム (22件)：

2H114AA02 ,  2H114AA10 ,  4F202AF01 ,  4F202AG05 ,  4F202AJ01 ,  4F202AJ06 ,  4F202AJ09 ,  4F202AJ10 ,  4F202AR12 ,  4F202CA19 ,  4F202CB01 ,  4F202CD23 ,  4F209AJ06 ,  4F209AJ08 ,  4F209AJ11 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PC05 ,  4F209PC06 ,  4F209PN06 ,  4F209PQ11 ,  5F046AA28

引用特許：

審査官引用 (8件)

• 微細金型コア部材
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-110128   出願人：独立行政法人産業技術総合研究所, ブラザー工業株式会社
• 樹脂成形型用材料及び樹脂成形型
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-167206   出願人：財団法人ファインセラミックスセンター
• 樹脂成形型、樹脂成形型の製造方法、及び樹脂成形方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-189219   出願人：TOWA株式会社
• 通気性を有するフィルムを備えるスタンパーと該スタンパーを備える成形装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-077357   出願人：農工大ティー・エル・オー株式会社
• 多孔フィルムおよびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-149418   出願人：アジア原紙株式会社
• 成形型およびこれを使用したシームレス成形品の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-106070   出願人：小松精練株式会社
• ポリイミド管状物の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-024051   出願人：株式会社アイ.エス.テイ
• プレス成形用型及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-054209   出願人：イビデン株式会社