特許
J-GLOBAL ID：201103066347911164

プラズマ処理装置

発明者：
本郷 俊明

本郷 俊明 について

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大沢 哲

大沢 哲 について

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篠原 己拔

篠原 己拔 について


出願人/特許権者：
日本高周波株式会社

日本高周波株式会社 について

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東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 浅井 章弘
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-022453
公開番号（公開出願番号）：特開2002-231637
特許番号：特許第4583618号
出願日： 2001年01月30日
公開日（公表日）： 2002年08月16日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 天井部が開口されて内部が真空引き可能になされた処理容器と、前記処理容器の天井部の開口に気密に装着された絶縁板と、被処理体を載置するために前記処理容器内に設けられた載置台と、前記絶縁板の上方に設けられて所定のピッチで形成された複数のマイクロ波放射孔からプラズマ発生用のマイクロ波を前記絶縁板を透過させて前記処理容器内へ導入する平面アンテナ部材と、前記平面アンテナ部材の上方に設けられて前記マイクロ波の波長を短縮するための遅波材と、前記処理容器内へ所定のガスを導入するガス供給手段とを有するプラズマ処理装置において、 前記遅波材の上部に設けられる誘電率調整部材と、 前記誘電率調整部材の高さ調整を行って前記遅波材に対して接近及び離間させる高さ調整機構とを備えたことを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (5件)：
H01L 21/205 ( 200 6.01) ,  B01J 19/08 ( 200 6.01) ,  C23C 16/511 ( 200 6.01) ,  H01L 21/3065 ( 200 6.01) ,  H05H 1/46 ( 200 6.01)
FI (5件)：
H01L 21/205 ,  B01J 19/08 H ,  C23C 16/511 ,  H01L 21/302 101 D ,  H05H 1/46 B
引用特許：
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (4件)
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