特許
J-GLOBAL ID：201103069909269125
ウェハ乾燥装置及び方法及びウェハ乾燥装置用IPAミスト噴霧装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
青山 葆 (外2名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-251522
公開番号（公開出願番号）：特開2001-077077
特許番号：特許第3457586号
出願日： 1999年09月06日
公開日（公表日）： 2001年03月23日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 窒素ガスと液相のイソプロピルアルコールとを混合させてミスト状態のイソプロピルアルコールのIPAミストを形成するIPAミスト形成部(34)と、IPAミスト噴射側に複数のIPAミスト噴射孔(3d,93d)を有し、かつ、上記IPAミスト形成部で形成された上記IPAミストを上記IPAミスト噴射孔からウェハに向けて噴射させるIPAミスト噴霧部(31,37)とを備え、上記IPAミスト噴霧部(31)は、IPAミスト噴射側に所定間隔をおいて開口(3g)を有し、かつ、上記IPAミスト形成部で形成されたIPAミストを供給するIPAミスト供給管(3c,3f)と、上記IPAミスト供給管の上記開口側を除く部分に形成され、外部の気体を取り込んで上記IPAミスト供給管の上記開口から噴射される上記IPAミストの噴射を促進させる噴射促進用通路(3e)と、上記IPAミスト供給管の上記開口側に配置され、かつ、上記IPAミスト供給管の上記開口から上記IPAミスト噴射孔を介して上記ウェハに向けて噴射される上記IPAミストの噴射方向に直線的に延びた噴射方向制御用通路(3k)とを備えるようにしたウェハ乾燥装置用IPAミスト噴霧装置。
IPC (4件)：
H01L 21/304 651
, B05B 7/04
, B08B 3/04
, F26B 5/16
H01L 21/304 651 H
, H01L 21/304 651 G
, B05B 7/04
, B08B 3/04 Z
, F26B 5/16
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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