特許

J-GLOBAL ID：201103070932012008

不活性化芳香族アミン化合物を含むフォトレジスト組成物

発明者： ウィリアム・アール・ブルンスヴォルド ,  アハマド・ディー・カトナーニー ,  プシュカラ・アール・ヴァラーナシー
出願人/特許権者： インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレ-ション
代理人 (1件)： 坂口 博 (外1名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-242038
公開番号（公開出願番号）：特開2000-089453
特許番号：特許第3120402号
出願日： 1999年08月27日
公開日（公表日）： 2000年03月31日
請求項（抜粋）：

【請求項1】(a)(i)酸に感受性のフォトレジスト・ポリマー、(ii)酸に感受性の化合物を添加した酸に感受性のフォトレジスト・ポリマー、および(iii)酸に感受性のアルカリ可溶性阻害剤を含む酸に非感受性のアルカリ可溶性フォトレジスト・ポリマーからなる群から選ばれた酸に感受性のポジティブ・フォトレジスト・ポリマー成分と、(b)放射線または粒子ビーム・エネルギーで露光されたときに酸を発生できる放射線感受性酸発生成分と、(c)下記の構造:;;化1::(上式で、Q-Eは4-メチルクマリンであり、R1とR2は独立にアルキル基、シクロアルキル基およびアリール基からなるグループから選ばれ、ただしR1とR2の一方がアリール基である場合にはR1とR2のうちの他方は水素でもよい。)を有する不活性化芳香族アミン化合物とを含むポジティブ・フォトレジスト組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/004 501 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/004 501 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R

引用特許：

審査官引用 (5件)

• ポジ型感放射線性組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-294038   出願人：三菱化学株式会社
• フォトレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-233670   出願人：住友化学工業株式会社
• 不活性保護基を有するPHSを含有するネガティブ・レジスト
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-165650   出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
• 化学増幅型ネガ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-347975   出願人：東京応化工業株式会社
• 感放射線性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-244856   出願人：ジェイエスアール株式会社