フォトレジスト組成物

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：久保山隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-233670
公開番号（公開出願番号）：特開平10-177250
出願日： 1997年08月29日
公開日（公表日）： 1998年06月30日
要約：

【要約】【課題】感度、解像度、耐熱性、残膜率、塗布性、プロファイルなどの諸性能に優れ、特にタイム・ディレイ効果耐性に優れた、化学増幅型のポジ型フォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】アルカリに対して不溶性または難溶性の状態から、酸の作用でアルカリ可溶性となる樹脂(A)、酸発生剤(B)および、脂肪族性水酸基を有する3級アミン化合物(C)の各成分を含有するポジ型フォトレジスト組成物。この組成物はさらに、酸化還元電位が1.7 eV 以下の電子供与体(D)を含有することもできる。【効果】環境による影響を受けにくく、また解像性に優れ、高感度で良好なプロファイルを与える。

請求項（抜粋）：

アルカリに対して不溶性または難溶性の状態から、酸の作用でアルカリ可溶性となる樹脂(A)、酸発生剤(B)および、脂肪族性水酸基を有する3級アミン化合物(C)を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/004 501 , G03F 7/004 503 , H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/004 501 , G03F 7/004 503 A , H01L 21/30 502 R

引用特許：

審査官引用 (7件)

レジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-312669 出願人：日本ゼオン株式会社
フォトレジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-005794 出願人：住友化学工業株式会社
ポジ型感光性組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-051595 出願人：三菱化学株式会社

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