特許
J-GLOBAL ID:201103072688591800
半導体検査システム
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
平木 祐輔
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-132668
公開番号(公開出願番号):特開2002-328015
特許番号:特許第4199939号
出願日: 2001年04月27日
公開日(公表日): 2002年11月15日
請求項(抜粋):
【請求項1】 半導体素子の設計情報を格納し、前記設計情報に基づいて半導体ウェハの検査すべき領域を含む撮影/検査条件を設定するナビゲーションシステムと、設定された撮影/検査条件に従って実際に半導体ウェハの撮影を行い、検査を実行する走査型電子顕微鏡システムから構成される半導体検査システムであって、
当該半導体検査システムは、前記設計情報のエッジ部を抽出し、当該抽出された設計情報のエッジ部に平滑化処理を施すと共に、当該平滑化処理された設計情報のエッジ部と、前記撮影された半導体素子の画像のエッジ抽出及び平滑化処理に基づいて形成されるエッジ部との間でマッチング処理を行うことを特徴とする半導体検査システム。
IPC (5件):
G01B 15/04 ( 200 6.01)
, G01N 23/225 ( 200 6.01)
, H01L 21/66 ( 200 6.01)
, G06T 1/00 ( 200 6.01)
, G06T 7/00 ( 200 6.01)
FI (5件):
G01B 15/04 K
, G01N 23/225
, H01L 21/66 J
, G06T 1/00 305 C
, G06T 7/00 300 D
引用特許:
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (7件)
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特開昭64-054305
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特開昭64-054305
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検査装置および検査方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-074422
出願人:株式会社東芝
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