特許
J-GLOBAL ID：201103074771469083
近接露光装置及び近接露光方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
小栗 昌平
, 本多 弘徳
, 市川 利光
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-277719
公開番号（公開出願番号）：特開2011-119594
出願日： 2009年12月07日
公開日（公表日）： 2011年06月16日
要約：
【課題】ワークとマスクとのギャップを均一化するようにチルト補正して、露光精度を向上する近接露光装置及び近接露光方法。【解決手段】ワークWのマークとマスクのアマークとを検出する少なくとも2つのアライメント検出系152と、露光領域Pに位置するワークWとマスクとのギャップをそれぞれ検出する少なくとも3つのギャップセンサ153と、マスク保持部をXY方向、およびθ方向に駆動可能、且つチルト駆動可能なマスク駆動機構200とを有し、マスク駆動機構200は、アライメント検出系153で検出された両マークのずれ量に基づいて、マスク保持部を水平面上で駆動することでワークWとマスクとのアライメントを調整するとともに、マスク駆動機構200は、ギャップセンサ153によって検出されたギャップに基づいて、マスク保持部をチルト駆動することで、ワークWとマスクとの相対的な傾きを補正する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
マスクを保持するマスク保持部と、
前記マスクと対向する露光領域へワークを搬送する搬送機構と、
前記露光領域に位置する前記ワークに対して露光光を前記マスクを介して照射する照明光学系と、
を備え、
前記露光領域に搬送された前記ワークの被露光部位を静止させ、前記ワークと前記マスクとを所定のギャップに近接させた状態で、前記照明光学系からの露光光の光束を前記マスクを介して前記ワークに照射し、前記マスクのパターンを前記ワークに転写する近接露光装置であって、
前記ワークのアライメントマークと前記マスクのアライメントマークとをそれぞれ検出する少なくとも2つのアライメント検出系と、
前記露光領域に位置するワークと前記マスクとのギャップをそれぞれ検出する少なくとも3つのギャップ検出系と、
該マスク保持部を水平面上の互いに直交するX方向及びY方向、該水平面に直交する軸回りのθ方向に駆動可能、且つチルト駆動可能なマスク駆動機構と、
をさらに有し、
前記マスク駆動機構は、前記アライメント検出系で検出された前記両アライメントマークのずれ量に基づいて、前記マスク保持部を前記水平面上で駆動することで前記ワークと前記マスクとのアライメントを調整するとともに、
前記マスク駆動機構は、前記ギャップ検出系によって検出された前記ギャップに基づいて、前記マスク保持部をチルト駆動することで、前記ワークとマスクとの相対的な傾きを補正することを特徴とする近接露光装置。
IPC (4件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20
, G03F 7/213
, G03F 9/00
H01L21/30 510
, G03F7/20 521
, G03F7/213 H
, G03F9/00 Z
2H097CA01
, 2H097CA03
, 2H097CA04
, 2H097GA45
, 2H097KA05
, 2H097KA12
, 2H097KA13
, 2H097LA10
, 2H097LA12
, 5F046BA02
, 5F046CC01
, 5F046CC02
, 5F046DA17
, 5F146BA02
, 5F146CC01
, 5F146CC02
, 5F146DA17
