加工装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：竹花喜久男
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-261911
公開番号（公開出願番号）：特開2001-085501
特許番号：特許第4091222号
出願日： 1999年09月16日
公開日（公表日）： 2001年03月30日
請求項（抜粋）：

【請求項1】パターン並びに周辺部にセルフアラインメント用マークが形成されたマスクもしくは原盤を保持する手段と、周辺部にセルフアラインメント用マークが形成された加工される基板を保持する手段と、前記マスクもしくは原盤に形成された前記セルフアラインメント用マークと前記基板に形成された前記セルフアラインメント用マークを合致させる第1の手段と、前記第1の手段とは異なる手段であって前記マスクもしくは原盤と前記基板間の相対位置を蛍光物質と蛍光消光物質の距離による蛍光強度の変化を検出する第2の手段とを具備することを特徴とする加工装置。

IPC (2件)：