特許
J-GLOBAL ID:201103075726128042
縦型熱処理装置及び熱処理方法並びに保温ユニット
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
井上 俊夫
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-339749
公開番号(公開出願番号):特開2001-156005
特許番号:特許第3598032号
出願日: 1999年11月30日
公開日(公表日): 2001年06月08日
請求項(抜粋):
【請求項1】蓋体の上に位置する保持具に多数の被処理体を棚状に保持させ、前記保持具を反応容器内に下方側から搬入すると共に前記蓋体により反応容器の下端を気密に塞ぎ、前記反応容器内を加熱雰囲気にして被処理体に対して熱処理を行う縦型熱処理装置において、前記蓋体の上に設けられた保温ユニットと、前記蓋体及び前記保温ユニットの中央部を貫通し、前記保持具を支持して鉛直軸のまわりに回転させるための回転軸と、この回転軸の下端部側に接続され、当該回転軸を回転させるための駆動部と、前記回転軸側に設けられた下向きの突起部と蓋体側に設けられた上向きの突起部とを重なり合うように配置して形成され、回転軸の軸受け部に反応ガスが回り込みにくくするためのラビリンスと、を備え、前記保温ユニットは、上面部に設けられ、高純度の炭素素材からなる抵抗発熱線を石英プレートの中に封入してなる発熱体ユニットと、この発熱体ユニットの下面側に設けられ、前記蓋体を貫通する石英からなる管状体と、この管状体の中を通して蓋体の外に引き出され、前記発熱体ユニットに給電するための高純度の炭素素材からなる給電路部材と、前記発熱体ユニットの下面側に設けられ、当該発熱体ユニットを支持する石英からなる支柱と、を備えたことを特徴とする縦型熱処理装置。
IPC (3件):
H01L 21/31
, C23C 16/46
, H01L 21/22
FI (3件):
H01L 21/31 B
, C23C 16/46
, H01L 21/22 511 Q
引用特許:
審査官引用 (14件)
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熱処理装置及び処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-325008
出願人:東京エレクトロン株式会社
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縦型高速熱処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-248297
出願人:東横化学株式会社
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特開平1-236615
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特開平1-236615
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熱処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-280086
出願人:東京エレクトロン東北株式会社
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特開平4-177837
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特開平4-177837
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熱処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-088976
出願人:東京エレクトロン東北株式会社
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半導体ウエハボードおよびそれを用いた拡散・CVD装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-300032
出願人:株式会社日立製作所
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ヒータ
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-149054
出願人:東芝機械株式会社
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特開平2-218117
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特開平2-218117
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特開昭63-278227
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特開昭63-278227
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