特許
J-GLOBAL ID：201103075808805921
露光用マスク及びフォーカスモニタ方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (6件)：
鈴江 武彦
, 村松 貞男
, 橋本 良郎
, 河野 哲
, 中村 誠
, 河井 将次
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-015975
公開番号（公開出願番号）：特開2002-221783
特許番号：特許第4109832号
出願日： 2001年01月24日
公開日（公表日）： 2002年08月09日
請求項（抜粋）：
【請求項1】透明基板の一主面上のパターン領域にデバイスパターンが形成され、投影光学系を介してウェハ上にデバイスパターンを転写するために使用される露光用マスクであって、
前記透明基板の一主面上の前記パターン領域の外側の領域に設けられ、パターンのピッチが異なる2種のパターンで形成されたフォーカスモニタ用パターンと、前記フォーカスモニタ用パターンのうちピッチが細かい方のパターンからの回折光で且つ前記投影光学系の瞳を通過する±回折光のうち何れか一方の成分を遮る遮蔽部とを具備してなることを特徴とする露光用マスク。
IPC (4件)：
G03F 1/08 ( 200 6.01)
, G03F 1/14 ( 200 6.01)
, G03F 7/20 ( 200 6.01)
, H01L 21/027 ( 200 6.01)
G03F 1/08 P
, G03F 1/14 J
, G03F 1/14 K
, G03F 7/20 521
, H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 516 A
