特許
J-GLOBAL ID：201103075814912373

パターン描画装置の状態監視方法および状態監視装置

発明者：
菅野 崇史

菅野 崇史 について


出願人/特許権者：
凸版印刷株式会社

凸版印刷株式会社 について


代理人 (18件)： 蔵田 昌俊 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  福原 淑弘 ,  峰 隆司 ,  白根 俊郎 ,  村松 貞男 ,  野河 信久 ,  幸長 保次郎 ,  河野 直樹 ,  砂川 克 ,  勝村 紘 ,  佐藤 立志 ,  岡田 貴志 ,  堀内 美保子 ,  竹内 将訓 ,  市原 卓三 ,  山下 元
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-049901
公開番号（公開出願番号）：特開2011-185683
出願日： 2010年03月05日
公開日（公表日）： 2011年09月22日
要約：
【課題】周期性のあるパターンにおいて、回折光量差によるコントラストからパターン変動発生箇所を精度良く識別し、かつ、その変動発生周期を簡便に導出することによってパターン描画装置の状態監視を実施できるパターン描画装置の状態監視方法を提供する。【解決手段】描画装置によって周期性パターンが形成された基板に照明光を斜め入射し、周期性パターンにより生じる回折光を用いて画像取得を行い、処理判定を行うパターン描画装置向け状態監視方法であって、前記周期性パターンのパターン情報入力工程と、位置決め工程と、パターンピッチと撮像分解能の関係から撮像倍率を決定するための撮像倍率設定工程と、デフォーカス工程と、デフォーカスさせた位置において、前記基板の周期性パターンを撮像し被処理画像を取得する撮像工程と、前記基板上で発生しているむら欠陥の発生周期を求めるむら欠陥周期算出工程と、前記基板上で発生しているむら欠陥が描画装置起因のものであるかどうかの判定を行う判定工程とを具備する。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
パターン描画装置によって周期性パターンが形成された基板を状態監視対象とし、前記基板に対し照明光を斜め方向から照射することで、前記周期性パターンにより生じる回折光を用いて画像取得を行い、処理判定を行うパターン描画装置の状態監視方法であって、 前記周期性パターンのピッチ、サイズ等の製品情報、および前記基板上へのパターン描画条件、前記パターン描画装置の種類等の描画情報を入力するパターン情報入力工程と、 前記基板の被撮像面内方向における位置決めを行う位置決め工程と、 前記パターン情報入力工程において入力された前記周期性パターンに関する情報を基に、パターンピッチと撮像分解能との関係から撮像倍率を決定するための撮像倍率設定工程と、 前記基板の周期性パターンが形成された面を被撮像面とし、合焦点位置を被撮像面に対して鉛直方法に所定量ずらすデフォーカス工程と、 前記合焦点位置から所定量デフォーカスさせた位置において、前記基板の周期性パターンを撮像し被処理画像を取得する撮像工程と、 前記被処理画像上で確認される前記基板上で発生しているむら欠陥の発生周期を求めるむら欠陥周期算出工程と、 このむら欠陥周期算出工程において求めたむら周期と、前記パターン情報入力工程において入力されたパターン描画条件との比較により、前記基板上で発生しているむら欠陥がパターン描画装置起因のものであるかどうかの判定を行う判定工程と、 を具備したことを特徴とするパターン描画装置の状態監視方法。
IPC (2件)：
G01N 21/956 ,  G03F 1/08
FI (2件)：
G01N21/956 A ,  G03F1/08 S
Fターム (13件)：
2G051AA56 ,  2G051AB02 ,  2G051BA04 ,  2G051BC04 ,  2G051CA03 ,  2G051CA04 ,  2G051CB02 ,  2G051CB06 ,  2G051EA08 ,  2G051EB01 ,  2H095BD04 ,  2H095BD12 ,  2H095BD17
引用特許：
出願人引用 (5件)
全件表示
審査官引用 (2件)

前のページに戻る

TOP

BOTTOM