特許
J-GLOBAL ID：201103079077858996
ポジ型フォトレジスト組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
小栗 昌平
, 本多 弘徳
, 市川 利光
, 高松 猛
, 矢澤 清純
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-150216
公開番号（公開出願番号）：特開2000-338677
特許番号：特許第3936491号
出願日： 1999年05月28日
公開日（公表日）： 2000年12月08日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 (a)フェノール性水酸基を含有するアルカリ可溶性樹脂の該フェノール性水酸基の少なくとも一部が下記一般式(I)で表される保護基により保護されている樹脂、(b)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(c)有機塩基性化合物及び(d)溶剤を含有し、
前記(a)樹脂が、フェノール性水酸基に対する一般式(I)で表される保護基による保護率が異なる2種以上の樹脂を含有する混合物であり、該混合物中の樹脂についての最も大きい当該保護率(BL1)%と最も小さい当該保護率(BL2)%との差(BL1-BL2)が3〜60の範囲にあることを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。
一般式(I)中:
R1は、炭素数1〜4個のアルキル基を表す。
Wは、酸素原子、窒素原子、イオウ原子、リン原子及び珪素原子からなる群から選択される少なくとも1種の原子と少なくとも1つの炭素原子を含有する有機基、アミノ基、アンモニウム基、メルカプト基、置換あるいは無置換のアリール基、又は置換あるいは無置換の環状アルキル基を表す。
nは、1〜4の自然数である。
IPC (2件)：
G03F 7/039 ( 200 6.01)
, H01L 21/027 ( 200 6.01)
G03F 7/039 601
, H01L 21/30 502 R
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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