特許
J-GLOBAL ID:201103081498101678
坩堝開口部保持部材、単結晶シリコンの製造方法及び単結晶シリコンの製造装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件):
志賀 正武
, 高橋 詔男
, 村山 靖彦
, 柳井 則子
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-205909
公開番号(公開出願番号):特開2011-057469
出願日: 2009年09月07日
公開日(公表日): 2011年03月24日
要約:
【課題】シリコン融液が貯留される石英坩堝の開口部の変形を防止して、使用後の石英坩堝の再使用を可能とする坩堝開口部保持部材、この坩堝開口部保持部材を利用した単結晶シリコンの製造方法及び単結晶シリコンの製造装置を提供する。【解決手段】シリコン融液が貯留される石英坩堝20の開口部の変形を防止する坩堝開口部保持部材60であって、石英坩堝20よりも高温強度の高い材料からなり、石英坩堝20の側壁部の内周面に係止される係止部63を備え、この係止部63によって、石英坩堝20の側壁部の開口端が内周側に倒れこむように変形することを防止する構成とされていることを特徴とする。【選択図】図2
請求項(抜粋):
シリコン融液が貯留される石英坩堝の開口部の変形を防止する坩堝開口部保持部材であって、
前記石英坩堝よりも高温強度の高い材料からなり、前記石英坩堝の側壁部の内周面に係止される係止部を備え、この係止部によって、前記石英坩堝の側壁部の開口端が内周側に倒れこむように変形することを防止する構成とされていることを特徴とする坩堝開口部保持部材。
IPC (2件):
FI (2件):
C30B29/06 502B
, C30B15/10
Fターム (8件):
4G077AA02
, 4G077BA04
, 4G077CF10
, 4G077EG01
, 4G077EG02
, 4G077HA12
, 4G077PD12
, 4G077PD16
引用特許:
審査官引用 (8件)
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シリコン溶融用坩堝
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-002521
出願人:住友シチックス株式会社
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特開平3-290393
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特開昭59-030794
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