特許
J-GLOBAL ID：201103091169971730
位相シフトマスクの欠陥修正装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
松下 義治
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-160478
公開番号（公開出願番号）：特開2001-343733
特許番号：特許第4318839号
出願日： 2000年05月30日
公開日（公表日）： 2001年12月14日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 イオンを放出するイオン源と、前記イオンを集束するためのイオン光学系と、前記集束イオンビームを試料上の所望の位置に照射するための偏向電極と、ガラスまたは石英の凹凸からなる位相シフトマスクの表面から放出される二次粒子を検出するための検出器と、二次粒子の平面強度分布に基づいて前記試料表面の画像を表示する画像表示装置と、前記試料表面の画像情報に基づいて加工領域を指定し、指定した領域のみ選択的に集束イオンビームを繰り返し走査しながら照射する機能を備えたマスク修正装置において、前記位相シフトマスクを弗化キセノンガス雰囲気下で粗加工したのちに、同じ加工領域を、沃素ガス雰囲気下で仕上げ加工することを特徴とする位相シフトマスクの欠陥修正装置。
IPC (1件)：
FI (2件)：
G03F 1/08 T
, G03F 1/08 A
