特許
J-GLOBAL ID：201103094606229613

処理装置およびその温度制御方法

発明者：
廣岡 隆明

廣岡 隆明 について

, 
古屋 正男

古屋 正男 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 亀谷 美明
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-212048
公開番号（公開出願番号）：特開2001-044176
特許番号：特許第4256031号
出願日： 1999年07月27日
公開日（公表日）： 2001年02月16日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 冷媒循環路の形成された被処理体の載置台を内蔵した処理室と,前記冷媒循環路を循環する冷媒の熱量制御および/または流量制御を行うための温調回路と,を備えたプラズマ処理装置において,前記載置台上の被処理体の温度を制御するための温度制御方法であって, 前記プラズマ処理装置におけるプロセス条件に応じて変化する,前記冷媒循環路における冷媒の入口温度と出口温度との理論的な差である目標差分値をプロセス条件毎に決定し, 前記冷媒循環路における冷媒の入口温度および出口温度を検出して,これらの入口温度と出口温度との差である実測差分値を決定し, 前記実測差分値が前記目標差分値に追随するように,前記温調回路における冷媒の熱量制御および/または流量制御を行いながら,前記載置台上の被処理体の温度を制御することを特徴とするプラズマ処理装置の温度制御方法。
IPC (2件)：
H01L 21/3065 ( 200 6.01) ,  F25D 17/02 ( 200 6.01)
FI (2件)：
H01L 21/302 101 G ,  F25D 17/02 303
引用特許：
審査官引用 (8件)
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