特許
J-GLOBAL ID:201103095716252315
薬液製造装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
志賀 正武
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-007041
公開番号(公開出願番号):特開2002-204941
特許番号:特許第4341185号
出願日: 2001年01月15日
公開日(公表日): 2002年07月23日
請求項(抜粋):
【請求項1】 洗浄液原液と水とを所定の比率で混合・希釈して目的の洗浄液を製造する薬液製造装置において、
混合すべき洗浄液原液を計量・貯留する薬液計量タンクと、前記薬液計量タンクにて計量される洗浄液原液の量に比べて大量の水を計量・貯留する水計量タンクと、これら複数の計量タンクから供給された洗浄液原液や水が混合されるミキシングタンクとを備え、
前記薬液計量タンクには、該薬液計量タンクの側部の開口に排出パイプが接続され、該排出パイプの上下方向での開口位置によって前記薬液計量タンクにて計量・貯留される洗浄液原液の量が設定され、
前記水計量タンクに、該水計量タンク内に上下に延在するようにして挿入され、その上端の開口部から流入した水を前記水計量タンク外に排出することで、前記水計量タンクに注入された水の貯留量を所定の量とする排出パイプが設けられ、この排出パイプの上端面に前記開口部が開口され、前記上端面が、オーバーフロー分の水の前記排出パイプへの流入、排出と前記オーバーフロー分の水の流入に伴う排出パイプ内の空気の放出とが前記開口部から円滑になされるように水平に対して傾斜されていることを特徴とする薬液製造装置。
IPC (3件):
B01F 15/04 ( 200 6.01)
, B01F 3/08 ( 200 6.01)
, B01J 4/02 ( 200 6.01)
FI (3件):
B01F 15/04 A
, B01F 3/08 Z
, B01J 4/02 B
引用特許:
審査官引用 (9件)
-
液調合装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-179806
出願人:ソニー株式会社
-
基板処理液定量供給装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-284079
出願人:大日本スクリーン製造株式会社
-
特開昭59-029424
-
液体定量補給装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-253119
出願人:イビデン株式会社
-
半導体ウエハ用ウエット処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-036871
出願人:株式会社東芝
-
基板洗浄装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-090581
出願人:大日本スクリーン製造株式会社
-
電解水生成装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-061804
出願人:アマノ株式会社
-
特開平1-288395
-
基板処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-077941
出願人:大日本スクリーン製造株式会社
全件表示
前のページに戻る