特許
J-GLOBAL ID:201103096026254494
フォトレジスト組成物
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
奥山 尚男
, 有原 幸一
, 奥山 尚一
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-308497
公開番号(公開出願番号):特開2001-125259
特許番号:特許第3836644号
出願日: 1999年10月29日
公開日(公表日): 2001年05月11日
請求項(抜粋):
【請求項1】下記一般式(1)〜(4)から選ばれる界面活性剤を含むことを特徴とするフォトレジスト組成物。
(上式中、R1は親水性基を示し、p、q、rはそれぞれ独立に0〜20の整数であり、p、q、rが同時に0になることはない。また、一般式(1)〜(4)において、R1、p、q、rの内容は、各式ごとに独立に指定される。)
IPC (4件):
G03F 7/004 ( 200 6.01)
, G03F 7/038 ( 200 6.01)
, G03F 7/039 ( 200 6.01)
, H01L 21/027 ( 200 6.01)
FI (4件):
G03F 7/004 504
, G03F 7/038 601
, G03F 7/039 601
, H01L 21/30 502 R
引用特許:
出願人引用 (7件)
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化学増幅ポジ型レジスト材料
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-246873
出願人:信越化学工業株式会社
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フォトレジスト組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-196882
出願人:三菱化学株式会社
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パターン形成方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-091041
出願人:信越化学工業株式会社
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審査官引用 (7件)
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化学増幅ポジ型レジスト材料
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-246873
出願人:信越化学工業株式会社
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フォトレジスト組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-196882
出願人:三菱化学株式会社
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パターン形成方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-091041
出願人:信越化学工業株式会社
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