特許
J-GLOBAL ID：201103096177643077
複合型光ファイバを用いたレーザ加工システム
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (6件)：
小野 新次郎
, 社本 一夫
, 小林 泰
, 千葉 昭男
, 富田 博行
, 桜井 周矩
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-187525
公開番号（公開出願番号）：特開2003-001465
特許番号：特許第4613274号
出願日： 2001年06月21日
公開日（公表日）： 2003年01月08日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 被加工物のレーザ加工システムにおいて、
(1)加工用レーザ伝送用のコア層、クラッド層、保護層及び画像伝送用ファイバから構成され、コア層を構成する加工用レーザ伝送用の大口径ファイバの周囲に多数の画像伝送用ファイバが集束されて一体化され、照明用レーザ光の伝送割合を大きくするために加工用レーザ伝送用の大口径ファイバの開口数を画像伝送用ファイバの開口数より小さくするとともに、加工用レーザ伝送用の大口径ファイバのクラッド層と画像伝送用ファイバとの間にコア層のレーザ光が画像伝送用ファイバに侵入するのを防ぐための純粋石英の保護層を設けた複合型光ファイバが使用され、
(2)レーザ発振器から発振された加工用レーザ光を、光ファイバを経てレーザ合成部であるダイクロイックビームスプリッターに導入して反射させ、複合型光ファイバへの入射光学系に導入した後、複合型光ファイバのコア層を通して出射部に導入し、そこで集光処理して被加工物に照射し、加工し、被加工物からの反射光を照明用レーザ光との波長の相違を利用してダイクロイックビームスプリッターで除去し、
(3)照明用レーザ光を、照明光ガイド用光ファイバを通してダイクロイックビームスプリッターに導入し加工用レーザ光の波長との波長の相違を利用して透過させ、入射光学系に導入して照明用レーザ光の中心と加工用レーザ光の中心とを合致させて重ね合わせた後、複合型光ファイバを通して出射部に導入し、そこで集光処理して被加工物に照射し、得られる画像が、複合型光ファイバ中心に設けられた加工用レーザ伝送用ファイバの周囲に集束された画像伝送用ファイバを通して伝送され、照射方向とは逆行して出射部、複合型光ファイバ、入射光学系、ダイクロイックビームスプリッター及び干渉フィルターを経てモニタ装置に到達して映し出されることを特徴とする、前記システム。
IPC (3件)：
B23K 26/02 ( 200 6.01)
, B23K 26/08 ( 200 6.01)
, G02B 6/06 ( 200 6.01)
B23K 26/02 C
, B23K 26/08 K
, G02B 6/06 A
