レーザー溶接方法

発明者： , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：西澤利夫
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-067816
公開番号（公開出願番号）：特開2001-259873
特許番号：特許第4408519号
出願日： 2000年03月10日
公開日（公表日）： 2001年09月25日
請求項（抜粋）：

【請求項1】ベース出力がピーク出力の50%以上になるように周期的に変動調節して溶接することを特徴とする溶込み深さ10mm以上の部分溶込みレーザー溶接方法。

IPC (2件)：