ガス処理方法及びその装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：井上俊夫 , 水野洋美
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-253239
公開番号（公開出願番号）：特開2000-150368
特許番号：特許第4030691号
出願日： 1999年09月07日
公開日（公表日）： 2000年05月30日
請求項（抜粋）：

【請求項1】密閉容器内でガスを用いて基板の表面処理を行うにあたって、密閉容器内に基板を搬入する工程と、基板が搬入された密閉容器内を排気しながら該密閉容器内に処理ガスを供給して密閉容器内を処理ガスの雰囲気とする工程と、続いて前記密閉容器の排気を停止するとともに処理ガスの導入も停止し、その状態で放置する工程と、を含み、処理ガスの供給及び停止のタイミング制御は密閉容器内の基板の温度に基づいて行うことを特徴とするガス処理方法。

IPC (2件)：