特許
J-GLOBAL ID:201103098887870873

ペリクル

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 野口 恭弘
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-230433
公開番号(公開出願番号):特開2011-076042
出願日: 2009年10月02日
公開日(公表日): 2011年04月14日
要約:
【課題】ペリクルを露光原版に貼り付けても、ペリクルフレームの変形に起因する露光原版の変形を極力低減することができるようなリソグラフィ用ペリクルを提供すること。【解決手段】ペリクルフレームの一端面にペリクル膜が張設され、他端面に粘着層が設けられ、前記粘着層がゲル組成物からなることを特徴とするリソグラフィ用ペリクル、好ましくは、前記ゲル組成物のASTM D-1403で規定される針入度が50以上である。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
ペリクルフレームの一端面にペリクル膜が張設され、他端面に粘着層が設けられ、前記粘着層がゲル組成物からなることを特徴とするリソグラフィ用ペリクル。
IPC (1件):
G03F 1/14
FI (1件):
G03F1/14 J
Fターム (1件):
2H095BC39
引用特許:
審査官引用 (5件)
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