特許
J-GLOBAL ID：200903047450842380

リソグラフィー用ペリクル

発明者：
白崎 享

白崎 享 について


出願人/特許権者：
信越化学工業株式会社

信越化学工業株式会社 について


代理人 (3件)： 荒井 鐘司 ,  河野 尚孝 ,  嶋崎 英一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-245823
公開番号（公開出願番号）：特開2008-065258
出願日： 2006年09月11日
公開日（公表日）： 2008年03月21日
要約：
【課題】 本発明は、ペリクルフレーム端面の平滑度に依存しない、ペリクルが貼付されたマスクの表面の平滑性を実現することを課題とする。【解決手段】 半導体リソグラフィーに使用されるペリクルにおいて、ペリクルをマスクに貼り付ける為のマスク粘着剤の厚みが0.4mm以上であることを特徴とする。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
半導体リソグラフィーに使用されるペリクルにおいて、ペリクルをマスクに貼り付ける為のマスク粘着剤の厚みが0.4mm以上であることを特徴とするリソグラフィー用ペリクル。
IPC (1件)：
G03F 1/14
FI (1件)：
G03F1/14 J
Fターム (2件)：
2H095BC36 ,  2H095BC39
引用特許：
出願人引用 (4件)
  • 特開昭58-219023号公報
  • 米国特許第4861402号明細書
  • 特公昭63-27707号公報
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審査官引用 (4件)
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引用文献：
審査官引用 (3件)

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