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J-GLOBAL ID：201202294529776781   整理番号：12A0248632

プラズマプロセス・チャンバ内のガス流特性,及び,ガス圧の短時間安定化用の干渉マトリックス操作による新規パルス制御ガス注入法の提案

Gas Flow Characteristics in a Plasma Process Chamber and Proposal of New Pulse-Controlled Gas Injection Method Using Interference Matrix Operation for Rapid Stabilization of Gas Pressure

著者 (4件)： MORISHITA Sadaharu (OMRON Corp., Kyoto, JPN) ,  GOTO Tetsuya (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  SHIRAI Yasuyuki (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  OHMI Tadahiro (Tohoku Univ., Sendai, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 51  号： 1,Issue 1  ページ： 016001.1-016001.8  発行年： 2012年01月25日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 多重ガスの高速代替え法による単一プラズマプロセス・チャンバにおける高精度,且つ,高スループットの多重プロセスを実現するため,プラズマプロセス・チャンバ内のガス流特性を調査した後,パルス制御式ガス注入法を開発した。ガス交換特性は,使用するガス供給法によって大きく左右されることが分かった。上部のシャワー・プレートは,チャンバ内の供給ガスの下方流パターンが形成されることにより,このシャワープレートを使用しない場合よりも,短時間のガス交換を実現できるという最大の利点を有する。パルス制御式ガス注入法では,短時間で安定なガス圧のガス供給開始時に意図的なオーバーシュート・パルスが使用される。チャンバ内の任意のガス流パターンについて,パルスサイズを決定するため,干渉マトリックス操作法を導入した。純Arプラズマを添加したHBrの場合において,最適パルスサイズが得られた。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *プラズマ処理 ,  実験装置 ,  *気体流 ,  *ガス交換 ,  操作 ,  *注入 ,  気体 ,  *パルス法
準シソーラス用語： ガス注入 ,  干渉マトリックス操作 ,  パルス制御式ガス注入

分類 (1件)： プラズマ応用  (BJ02110K)

引用文献 (15件)：

• 1) M. Nagase, M. Kitano, Y. Shirai, and T. Ohmi: Jpn. J. Appl. Phys. 40 (2001) 5168.
• 2) S. Morishita, T. Goto, M. Nagase, and T. Ohmi: J. Vac. Sci. Technol. A 27 (2009) 423.
• 3) S. Morishita, T. Goto, I. Akutsu, K. Ohyama, T. Ito, and T. Ohmi: Jpn. J. Appl. Phys. 48 (2009) 016003.
• 4) J. W. Elam, M. D. Groner, and S. M. George: Rev. Sci. Instrum. 73 (2002) 2981.
• 5) T. Goto, H. Yamauchi, T. Kato, M. Terasaki, A. Teramoto, M. Hirayama, S. Sugawa, and T. Ohmi: Jpn.J,Appl. Phys. 43 (2004) 1784.

タイトルに関連する用語 (11件)： プラズマプロセス ,  チャンバ ,  流特性 ,  ガス圧 ,  短時間 ,  安定化 ,  干渉 ,  マトリックス ,  パルス ,  ガス注入法 ,  提案