特許
J-GLOBAL ID：201203005929840120
Cu-Ga合金ターゲット材およびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-140203
公開番号（公開出願番号）：特開2012-031508
出願日： 2011年06月24日
公開日（公表日）： 2012年02月16日
要約：
【課題】 スパッタリングの際に安定した成膜が可能なCu-Ga合金ターゲット材を提供する。【解決手段】 Gaを10〜95質量%含有し、残部Cuおよび不可避的不純物からなるCu-Ga合金ターゲット材であって、組織が平均粒径300μm以下のCu-Ga合金相からなり、ターゲット材中の各部位のGa含有量のターゲット材全体のGa含有量の平均値に対する変動量が±3%以内の範囲にあり、ターゲット材の各部位の相対密度のターゲット材全体の相対密度の平均値に対する変動量が±2%以内の範囲にあり、ターゲット材全体の相対密度の平均値が100%以上であり、ターゲット材の各部位の酸素含有量のターゲット材全体の酸素含有量の平均値に対する変動量が±20%以内の範囲にあり、且つ、ターゲット材全体の酸素含有量の平均値が300質量ppm以下であるCu-Ga合金ターゲット材。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
Gaを10〜95質量%含有し、残部Cuおよび不可避的不純物からなるCu-Ga合金ターゲット材であって、組織が平均粒径300μm以下のCu-Ga合金相からなり、ターゲット材中の各部位のGa含有量のターゲット材全体のGa含有量の平均値に対する変動量が±3%以内の範囲にあり、ターゲット材の各部位の相対密度のターゲット材全体の相対密度の平均値に対する変動量が±2%以内の範囲にあり、ターゲット材全体の相対密度の平均値が100%以上であり、ターゲット材の各部位の酸素含有量のターゲット材全体の酸素含有量の平均値に対する変動量が±20%以内の範囲にあり、且つ、ターゲット材全体の酸素含有量の平均値が300質量ppm以下であることを特徴とするCu-Ga合金ターゲット材。
IPC (4件)：
C23C 14/34
, C22C 9/00
, C22C 28/00
, C22C 1/04
C23C14/34 A
, C22C9/00
, C22C28/00 B
, C22C1/04 A
, C22C1/04 E
4K018AA04
, 4K018AA40
, 4K018DA11
, 4K018EA02
, 4K018EA13
, 4K018EA32
, 4K018KA29
, 4K018KA32
, 4K029CA05
, 4K029DC04
, 4K029DC07
, 4K029DC09
, 4K029DC34
