特許
J-GLOBAL ID:201203018766260613

合成ガスとナノカーボンの製造方法および製造システム

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 横井 幸喜
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2011-053865
公開番号(公開出願番号):特開2012-188321
出願日: 2011年03月11日
公開日(公表日): 2012年10月04日
要約:
【課題】低級炭化水素を用いて、ナノカーボンの製造と同時に、所望のガス比の合成ガスを容易に製造する。【解決手段】低級炭化水素供給路20が連通する空間に触媒が収容されて前記空間が低級炭化水素の直接分解がなされる反応空間である低級炭化水素分解反応装置10と、二酸化炭素供給路23、35が連通する空間にナノカーボンが収容されて前記空間が、二酸化炭素を一酸化炭素に還元する反応空間である二酸化炭素還元反応装置30と、低級炭化水素分解反応装置10および二酸化炭素還元反応装置30に接続され、低級炭化水素分解反応装置10で生成された水素と二酸化炭素還元反応装置30で生成された一酸化炭素とを混合する混合部50とを備えることで、ナノカーボンの製造と同時に、所望のガス比の合成ガスを容易に製造できる。【選択図】図1
請求項(抜粋):
低級炭化水素を触媒を使用して直接分解し、水素とナノカーボンを生成する低級炭化水素分解工程と、 前記低級炭化水素分解工程で生成された前記ナノカーボンの一部と二酸化炭素とを反応させて、一酸化炭素を製造する二酸化炭素還元工程と、 前記低級炭化水素分解工程で生成された前記水素と前記二酸化炭素還元工程で生成された前記一酸化炭素とを所定の比率で混合して合成ガスを得る混合工程と、を有することを特徴とする合成ガスとナノカーボンの製造方法。
IPC (5件):
C01B 3/26 ,  C01B 31/02 ,  C01B 31/18 ,  C07C 29/151 ,  C07C 31/04
FI (5件):
C01B3/26 ,  C01B31/02 101F ,  C01B31/18 A ,  C07C29/151 ,  C07C31/04
Fターム (24件):
4G140DA03 ,  4G140DB01 ,  4G140DB05 ,  4G140DC02 ,  4G146AA07 ,  4G146AB01 ,  4G146BA12 ,  4G146BA48 ,  4G146BC08 ,  4G146BC33B ,  4G146BC44 ,  4G146DA03 ,  4G146DA27 ,  4G146DA28 ,  4G146JA01 ,  4G146JB04 ,  4G146JB05 ,  4G146JC01 ,  4G146JC18 ,  4G146JC22 ,  4G146JC36 ,  4H006AA02 ,  4H006AC41 ,  4H006FE11
引用特許:
審査官引用 (8件)
全件表示
引用文献:
前のページに戻る