特許
J-GLOBAL ID：201203024918924830
電子ビームの照射方法及び走査電子顕微鏡
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
井上 学
, 戸田 裕二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-148463
公開番号（公開出願番号）：特開2012-014890
出願日： 2010年06月30日
公開日（公表日）： 2012年01月19日
要約：
【課題】本発明は、パターンから放出される電子を適正にパターン外に導くための電界を形成する電子ビーム走査方法、及び走査電子顕微鏡の提供を目的とする。【解決手段】上記目的を達成するために、帯電を形成するための電子ビームを、試料に照射する際に、試料上に形成されたパターンのパターン中心を対称点とする第1の位置と第2の位置に、第1の電子ビームを照射した後、対称点を中心とした第1と第2の位置と同一の半径上であって、第1と第2の照射位置との間の2つの中心位置に更に第1の電子ビームを照射し、更にその後、半径上の既走査位置間の中心位置への第1の電子ビームの照射を繰り返す。【選択図】 図3
請求項（抜粋）：
試料に第1の電子ビームを照射して、試料を帯電させ、当該帯電した試料への第2の電子ビームの走査によって得られる電子に基づいて、前記試料の測定或いは検査を行う電子ビーム照射方法において、
前記試料上に形成されたパターンのパターン中心を対称点とする第1の位置と第2の位置に、前記第1の電子ビームを照射した後、前記対称点を中心とした前記第1と第2の位置と同一の半径上であって、前記第1と第2の照射位置との間の2つの中心位置に更に前記第1の電子ビームを照射し、更にその後、前記半径上の既走査位置間の中心位置への前記第1の電子ビームの照射を繰り返すことを特徴とする電子ビーム照射方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01J37/147 B
, H01J37/28 B
5C033FF03
, 5C033NN01
, 5C033NP08
, 5C033UU01
, 5C033UU04
, 5C033UU10
