特許
J-GLOBAL ID:201203025943883410
画像処理装置、及びコンピュータプログラム
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (4件):
井上 学
, 戸田 裕二
, 渡邊 孝弘
, 岩崎 重美
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-193077
公開番号(公開出願番号):特開2012-052810
出願日: 2010年08月31日
公開日(公表日): 2012年03月15日
要約:
【課題】本発明は、設計データと輪郭線、或いは輪郭線間のマッチングを行うに当たり、両者の対応点を正確に特定する画像処理装置、及びコンピュータプログラムの提供を目的とする。【解決手段】上記目的を達成するための一態様として、第1の線分によって形成される第1のパターンと、第2の線分によって形成される第2のパターン間の位置合わせを行うときに、第1の線分と第2の線分上にそれぞれ第1の対応点と、第2の対応点を設定し、第1の対応点と第2の対応点間の距離に基づいて、第1のパターンと第2のパターンの位置合わせを行うためのアライメント量を算出すると共に、第1の線分と第2の線分の形状差に応じて、第1の対応点、及び/又は第2の対応点の位置を変化させる。【選択図】 図2
請求項(抜粋):
第1の線分によって形成される第1のパターンと、第2の線分によって形成される第2のパターン間の位置合わせを行う位置合わせ処理部を備えた画像処理装置において、
当該位置合わせ処理部は、前記第1の線分と第2の線分上にそれぞれ第1の対応点と、第2の対応点を設定し、当該第1の対応点と第2の対応点間の距離に基づいて、前記第1のパターンと第2のパターンの位置合わせを行うためのアライメント量を算出すると共に、当該位置合わせ処理部は、前記第1の線分と第2の線分の形状差に応じて、前記第1の対応点、及び/又は第2の対応点の位置を変化させることを特徴とする画像処理装置。
IPC (3件):
G01B 15/00
, G06T 7/00
, G01B 15/04
FI (3件):
G01B15/00 K
, G06T7/00 300E
, G01B15/04 K
Fターム (41件):
2F067AA03
, 2F067AA15
, 2F067AA54
, 2F067BB01
, 2F067BB04
, 2F067CC16
, 2F067CC17
, 2F067GG08
, 2F067HH06
, 2F067JJ05
, 2F067KK04
, 2F067KK08
, 2F067QQ11
, 2F067RR00
, 2F067RR07
, 2F067RR12
, 2F067RR20
, 2F067RR29
, 2F067RR30
, 2F067RR33
, 2F067RR35
, 2F067RR41
, 2F067RR44
, 5L096AA06
, 5L096BA03
, 5L096BA18
, 5L096CA02
, 5L096EA14
, 5L096EA15
, 5L096EA16
, 5L096FA06
, 5L096FA32
, 5L096FA38
, 5L096FA55
, 5L096FA62
, 5L096FA66
, 5L096FA69
, 5L096GA04
, 5L096GA32
, 5L096HA07
, 5L096JA03
引用特許:
審査官引用 (6件)
-
試料寸法測定方法、及び試料寸法測定装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2006-068480
出願人:株式会社日立ハイテクノロジーズ
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高密度OPC
公報種別:公表公報
出願番号:特願2008-533315
出願人:メンター・グラフィクス・コーポレーション
-
検査装置及び検査方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2007-254610
出願人:株式会社日立ハイテクノロジーズ
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