特許
J-GLOBAL ID：200903014465423818
パターン測定方法、及びパターン測定装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井上 学
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-049923
公開番号（公開出願番号）：特開2006-234588
出願日： 2005年02月25日
公開日（公表日）： 2006年09月07日
要約：
【課題】 設計データと実際のパターン間の位置あわせするための確たる基準がなく、設計データが示す理想パターンに対し、測定対象パターンがどの程度ずれて形成されているのか等、何らかの基準に基づいて、測定することができなかった。【解決手段】 上述のような問題を解決するため、測定個所から離間した位置に形成され、走査電子顕微鏡等によって得られる画像上の基準パターンの位置情報と、設計データに基づいて検出される基準パターンと測定個所の位置関係の情報に基づいて、走査電子顕微鏡等による測定個所の基準位置を設定する。【選択図】図12
請求項（抜粋）：
試料上のパターンの画像を取得し、当該画像上のパターンを測定する方法において、
前記試料上の測定個所に対し、離間した位置に配置された基準パターンの画像を取得し、当該基準パターンの画像上の位置と、当該基準パターンと前記測定個所を含む部分の設計データに基づいて前記測定のための基準位置を設定することを特徴とするパターン測定方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G01B15/04
, G06T1/00 305C
2F067AA21
, 2F067AA26
, 2F067AA33
, 2F067CC17
, 2F067HH06
, 2F067HH13
, 2F067JJ05
, 2F067KK04
, 2F067KK08
, 2F067LL00
, 2F067LL16
, 2F067NN10
, 2F067PP12
, 2F067QQ02
, 2F067RR31
, 2F067RR35
, 2F067RR38
, 5B057AA03
, 5B057BA02
, 5B057CA12
, 5B057CA16
, 5B057DA07
, 5B057DB02
, 5B057DC03
出願人引用 (2件)
審査官引用 (8件)
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