特許
J-GLOBAL ID：201203031764141567

パターン検査装置及びそれに使用する照明光学系

発明者：
今野 高治

今野 高治 について

, 
山下 勇樹

山下 勇樹 について

, 
大淵 一人

大淵 一人 について


出願人/特許権者：
株式会社ブイ・テクノロジー

株式会社ブイ・テクノロジー について


代理人 (6件)： 笹島 富二雄 ,  西山 春之 ,  奥山 尚一 ,  小川 護晃 ,  荒木 邦夫 ,  梶 大樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-014947
公開番号（公開出願番号）：特開2012-168171
出願日： 2012年01月27日
公開日（公表日）： 2012年09月06日
要約：
【課題】パターンの形成状態を高コントラストで検査可能にする。【解決手段】カラーフィルタ基板4上に線状に形成されたシールライン5の形成状態を検査するパターン検査装置であって、シールライン5を撮影する検査カメラ2と、検査カメラ2の撮影領域を照明する照明光学系3と、を備え、照明光学系3によりカラーフィルタ基板4に照射される照明光の光線の光軸Laxに対する最大角度θ1が検査カメラ2の画角θ2の半角θ2/2に略等しくなるようにしたものである。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
基板上に形成されたパターンの形成状態を検査するパターン検査装置であって、 前記パターンを撮影する検査カメラと、 前記検査カメラの撮影領域を照明する照明光学系と、 を備え、 前記照明光学系により前記基板に照射される照明光の光線の光軸に対する最大角度が前記検査カメラの画角の半角に略等しくなるようにしたことを特徴とするパターン検査装置。
IPC (3件)：
G01N 21/956 ,  G01M 11/00 ,  G01N 21/84
FI (3件)：
G01N21/956 Z ,  G01M11/00 T ,  G01N21/84 E
Fターム (13件)：
2G051AA73 ,  2G051AB02 ,  2G051AB12 ,  2G051BB03 ,  2G051BB09 ,  2G051BB17 ,  2G051CA03 ,  2G051DA06 ,  2G051EA11 ,  2G051EA14 ,  2G051EA16 ,  2G051EB01 ,  2G086EE05
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (9件)
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