特許
J-GLOBAL ID：201203040515956320
マスクブランクの製造方法及び転写用マスクの製造方法、並びにマスクブランク及び転写用マスク
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
藤村 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-110266
公開番号（公開出願番号）：特開2012-003255
出願日： 2011年05月17日
公開日（公表日）： 2012年01月05日
要約：
【課題】波長200nm以下の露光光に対する薄膜の耐光性の向上、マスク寿命の改善を顕著に図ることができるマスクブランクの製造方法及び転写用マスクの製造方法、並びにマスクブランク及び転写用マスクを提供する。【解決手段】透光性基板上に薄膜を備えたマスクブランクの製造方法であって、 前記透光性基板上に、遷移金属を含有する材料からなる薄膜を成膜する工程と、 前記薄膜に過熱水蒸気処理を施す工程と、を備えることを特徴とするマスクブランクの製造方法。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
透光性基板上に薄膜を備えたマスクブランクの製造方法であって、
前記透光性基板上に、遷移金属を含有する材料からなる薄膜を成膜する工程と、
前記薄膜に過熱水蒸気処理を施す工程と、
を備えることを特徴とするマスクブランクの製造方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (6件)：
2H095BB03
, 2H095BC05
, 2H095BC09
, 2H095BC11
, 2H095BC26
, 2H095BC27
出願人引用 (2件)
審査官引用 (9件)
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