特許
J-GLOBAL ID：201203043298775052
薄膜製造方法および薄膜素子
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
酒井 宏明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-173007
公開番号（公開出願番号）：特開2012-031022
出願日： 2010年07月30日
公開日（公表日）： 2012年02月16日
要約：
【課題】低コストで安定した品質の薄膜を製造すること。【解決手段】薄膜製造方法は、基板20の第1主面20a上に形成させる薄膜の金属酸化物前駆体溶液12中に、基板を配置する配置工程と、光源13からレーザ光14を照射することにより、基板20の第1主面20a上に薄膜を形成する形成工程と、光源13と同一の光源13からレーザ光14を照射して、基板20の第1主面20aと金属酸化物前駆体溶液12の液面の距離73を計測する工程と、計測結果に基づいて、基板20の高さ方向の位置を調整する工程とを含む。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
基板の第1主面上に形成させる薄膜の原料溶液中に、前記基板を配置する配置工程と、
光源から前記第1主面側に光を照射することにより、前記基板の第1主面上に前記薄膜を形成する形成工程と、
前記光源と同一の光源から光を照射して、前記基板の第1主面と原料溶液面の距離を計測する工程と、
計測結果に基づいて、前記基板の高さ方向の位置を調整する工程と、
を含むことを特徴とする薄膜製造方法。
IPC (8件)：
C01B 13/14
, C01B 13/32
, H01L 41/18
, H01L 41/24
, H01L 41/09
, H01L 41/22
, H01L 27/105
, H01L 21/824
C01B13/14 Z
, C01B13/32
, H01L41/18 101Z
, H01L41/22 A
, H01L41/08 C
, H01L41/08 L
, H01L41/22 Z
, H01L27/10 444C
4G042DA01
, 4G042DB15
, 4G042DB35
, 4G042DC03
, 4G042DD02
, 4G042DE08
, 4G042DE09
, 4G042DE14
, 5F083FR00
, 5F083GA27
, 5F083JA15
, 5F083JA38
, 5F083JA44
, 5F083JA45
, 5F083PR05
, 5F083PR23
, 5F083PR33
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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